특징 : Particle Size Analzer S3500

● 광범위한 측정범위 0.02-3000um
    : 응용범위가 넓다.
● 고체 레이저 다이오드 사용
    기체 레이저에 비해 수명이 길다
    훨씬 더 장시간동안 안정한 광원 에너지를 방출한다
● 특허받은  Tri-Laser Technology
    : 최상의 분해능, 정확성, 신뢰도 제공
● 한 시스템에서 미세 입자부터 큰 입자까지 측정할 수
    있으며, 습식, 건식 분석이 가능하다.
● 습식 또는 건식 시스템으로 업그레이드가 용이
● 사용이 편리하고 조작이 쉽다
● 습식 또는 건식으로 전환하기가 쉽다.
● 크기가 작아서 설치공간을 많이 차지하지 않는다.
● 유지관리가 쉽고 비용이 저렴하다.

● Semiconductor     
● Medical
● Nuclear
● Industrial Carbon
● Food, Flavoring, Dairy
● Abrasives, Grinding  
● Diamond Abrasives

● Emulsions
● Ceramics, Cement, Whiteware
● Minerals & Metal Powders
● Inks, Dyes, Toners
● Refractories - Brick, Silica
● Process Monitoring
● Plastics & Polymers

● Pharmaceuticals
● Film Process
● Computer HardDisk
● Paint & Coatings
● Explosives & Propellants
● Polishing

규격 : Particle Size Analzer S3500

 ● 시스템구성 : S3500, PC, SVGA 모니터, 데이터관리 소프트웨어
 ● 결과데이터 : volume 분포, number 분포, area 분포
 ● 샘플링장치 : 건식 또는 습식 자동 샘플러(옵션)
 ● 용매 : 미립자 샘플을 전달할 수 있는 아무 용매나 사용 가능
 ● 전원 : 90∼240VAC, 5 amp, 47/63 Hz, 단상
 ● 크기 : 높이 13 in. (33.0cm), 가로 22 in. (55.9cm), 세로 16 in, (37.5cm)

                                  MICROTRAC S3500 CONFIGURATION SHEET

Enhanced 시스템
S3500 Enhanced System은 사용자가 필요로 하는 어떤 입도분석도 가능한 포괄적인 시스템이다. 향상된 고정밀 Tri-Laser 기술의 이용으로, 구성을 바꾸지 않고 최대 입도측정범위를 가지는 세계에서 가장 작은 고체상장치에 있는 광학시스템을 향상시켰다. 이 장치는 R&D조건이 변하는 경우에, 그리고 다양한 입도의 샘플을  분석할 수 있는 장비를 필요로 하는 고객에게 아주 좋다.

eXtended 시스템
S3500 Standard 시스템은 합리적인 가격에 Microtrac의 특허받은 다중 레이저장치를 사용하고, 더 고급 모델로 쉽게 효율적인 비용으로 업그레이드할 수 있다. 측정범위를 제외한 나머지는 Standard 시스템과 동일하다.

Standard 시스템
S3500 Standard 시스템은 합리적인 가격에 Microtrac의 특허받은 다중 레이저장치를 사용하고, 더 고급 모델로 쉽게 효율적인 비용으로 업그레이드할 수 있다.

Basic 시스템
S3500 Basic 시스템은 다중 레이저 장치를 가지며, 습식이나 건식측정이 가능하다. 침전법이나 체로 분석하는데 한시간 이상을 소비하는 대신, 이제는 Microtrac S3500 입도 분석기를 사용하여 Tyler와 US sieve mesh size로 전환하여 수초내에 완벽한 분포결과를 얻을 수 있다. S3500은 사용하기 쉽고 재현성 있는 결과를 산출하며 측정시간이 절약된다. S3500은 특별한 응용조건을 만족시킬 수 있는 저렴한 입도 분석기에 대한 고객들의 요구를 충족시켜준다. 예전에 고객을 침전법 장치로 묶어놓았던 예산으로 이제는 광산란시스템을 이용할 수 있다. Tyler와 US sieve mesh size로 쉽게 전환가능하므로 sieve분석법을 대체할 수 있다.